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        UV激光曝光系统

        扫描曝光方式特点:  
        1.光束垂直高度<=0.23°; 
        2.工作幅面一般100mm×100mm,可定制; 
        3.光斑能量密度高; 
        4.不需掩膜,可精确曝光三维图形; 
        5.可快速修改任意曝光图形。 

        掩膜曝光方式特点:

        1.光束直径可达φ100mm,可定制; 
        2.光束发散角小,光束准直度可达到5μrad; 
        3.可精确曝光三维图形; 
        4.对环境温度要求不高。
        应用领域:FPC、数码产品、印刷等。
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